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ELECPURE™ PRF-200C Surfactant
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Qué es ELECPURE™ PRF-200C Surfactant?
It serves as the PFAS surfactant replacement in photoresist production. It offers several key benefits: it provides low foam in solvents like PM/PMA, functions as a wetting agent to enable high affinity between photoresist and wafer. It is also an ideal leveling agent to guarantee smooth photoresist layer on substrate.
Usos
- Photoresist
- BARC
Beneficios
- Low foam
- Good leveling performance
- High wetting performance