Especificaciones t茅cnicas de la limpieza y procesos posteriores

Aunque los par谩metros de la limpieza no son comunes en los procesos posteriores, las medidas generales siguientes, basadas en la contaminaci贸n residual total, medida en mg/m2, pueden resultar de utilidad.

  • Limpieza聽< 500 mg suciedad total/m2
  • Limpieza de precisi贸n < 50 mg suciedad total/m2
  • Limpieza cr铆tica < 5mg suciedad total/m2

Los criterios de limpieza suelen basarse en los requisitos de rendimiento del proceso posterior, como la adherencia de recubrimientos de pintura o uso en la industria de la electr贸nica. Hace poco, el sector del autom贸vil fij贸 unos requisitos espec铆ficos para las superficies limpias, poniendo especial hincapi茅 en las part铆culas (VDA 19).


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